原標題：NVM測試要求發生演變，泰克4200A一體化測試解決方案集中進行表征

NVM（非易失性內存）測試要求的演變促使泰克4200A一體化測試解決方案通過集中式表征技術，為科研人員和工程師提供了高效、精準的測試能力。

一、NVM測試要求的演變

1. 傳統測試方法的局限性

• DC儀器與示波器的缺陷：傳統測試依賴DC儀器（如源測量單元SMU）或示波器，存在操作復雜、測試功能有限、數據提取耗時等問題。例如，示波器需在脈沖傳送時才能測量電壓，且負載電阻器可能影響測量精度。

• 定制系統的不足：定制系統雖能同時測量電流和電壓，但需專業人員維護，測試控制繁瑣，難以擴展。

2. 新興NVM技術的挑戰

• 材料與技術的多樣性：包括相變內存（PCM/PRAM）、電荷俘獲內存（CTF/SONOS）、電阻內存（ReRAM）、鐵電內存（FeRAM）和磁阻內存（MRAM）等，每種技術具有獨特的物理特性。

• 共性測試需求：盡管材料不同，但電氣表征的測試參數（如脈沖寬度、過沖、上升時間等）具有共性，需統一測試平臺。

二、泰克4200A一體化測試解決方案

1. 核心硬件：4225-PMU超快速I-V模塊

• 采樣類型：捕獲基于時間的電流和電壓波形，分析瞬態或動態特性。

• 均值類型：提供類似DC的電流和電壓測量，支持I-V表征。

• 雙通道脈沖源：每條通道集成同步實時電流和電壓測量功能，支持高速采樣（200 MSa/s，5 ns采樣率）。

• 測量類型：

2. 輔助設備：4225-RPM遠程放大器/開關

• 低電流測量范圍：位于被測器件（DUT）附近，減少線纜影響，提供更好的脈沖形狀和高速測量。

• 信號切換功能：支持高分辨率DC測量和C-V測量，無需重新布線。

3. 軟件支持：Clarius軟件

• 范例項目：提供閃存、PRAM、FeRAM和ReRAM器件的測試項目，演示4200A-SCS的功能。

• 自動化測試：通過測試序列管理器和交互式測試設置界面，簡化測試流程。

三、技術優勢與應用

1. 集中式表征的優勢

• 高效性：單臺儀器即可表征多種NVM技術和器件，減少測試時間和成本。

• 精準性：應用脈沖并高速采樣電壓和電流，深入了解內存行為的電氣和物理機制。

• 靈活性：支持多脈沖波形發生功能，仿真最終產品環境，滿足不同測試需求。

2. 典型應用場景

• 晶圓級可靠性測試（WLR）：評估半導體器件的工作壽命和失效機制，如熱載流子注入（HCI）、負偏置溫度不穩定性（NBTI）等。

• 動態參數測試：測量閾值電壓（VT）、漏極電流（IDLIN和IDSAT）、跨導（Gm）等參數的時間相關性退化。

四、未來展望

隨著NVM技術的不斷發展，泰克4200A一體化測試解決方案將繼續優化，支持更高速、更低功耗的測試需求。其模塊化設計和可擴展性，使其能夠適應未來新興NVM技術的測試挑戰，為科研和工業界提供持續的技術支持。