原標題：上海微電子年底前將推出28nm光刻機？

關于上海微電子年底前是否將推出28nm光刻機的問題，雖然目前沒有直接的信息表明該設備確切的推出時間，但可以從相關報道和公開信息中做一些合理的推斷。

首先，上海微電子裝備公司（SMEE）在光刻機研發方面有著一定的實力和積累。有報道指出，上海微電子正在全力以赴開發國產28納米光刻機，并計劃在未來實現量產。這表明上海微電子在28nm光刻機領域有明確的研發目標和計劃。

其次，從時間節點來看，雖然目前沒有確切的年底前推出的消息，但考慮到光刻機的研發周期和測試流程，如果上海微電子已經在這一領域取得了顯著的進展，那么年底前推出也不是沒有可能。然而，這也需要考慮到技術研發的復雜性和不確定性，因此具體推出時間還需以官方發布的信息為準。

另外，值得注意的是，光刻機的研發和生產是一個高度復雜和精密的過程，需要投入大量的資金和技術力量。同時，由于光刻機在半導體產業中的重要地位，其研發和生產也受到了廣泛的關注和競爭。因此，上海微電子在推出28nm光刻機時可能會面臨多方面的挑戰和競爭。

綜上所述，雖然目前沒有確切的信息表明上海微電子年底前將推出28nm光刻機，但根據相關報道和公開信息可以推斷，上海微電子在這一領域有著明確的研發目標和計劃，并且有可能在未來實現量產。然而，具體推出時間還需以官方發布的信息為準。

此外，光刻機的推出不僅標志著技術進步，也將對半導體產業的發展產生重要影響。因此，對于這一領域的關注和期待是合理的，但也需要保持理性和客觀的態度，等待官方發布的確切信息。