原標題：從夜視到“元宇宙”入口設備，ALD光學鍍膜不斷突破

從夜視到“元宇宙”入口設備，ALD（原子層沉積技術）光學鍍膜在技術和市場應用上不斷取得突破，主要體現在以下幾個方面：

一、技術突破

1. 高精度與均勻性：

• ALD技術以其出色的膜層厚度均勻性、保形性和高性價比，在現代光學鍍膜領域受到越來越多的重視。它能夠實現納米級的精確控制，確保薄膜的厚度和成分滿足各種復雜應用的需求。

• ALD工藝通過交替引入前驅體氣體，在襯底表面逐層生長薄膜，每一步反應后都進行氣體的凈化和排放，以確保反應的純凈性和薄膜的質量。這種逐層生長的方式使得ALD工藝在復雜幾何形狀和高縱深比的結構上也能實現均勻的薄膜生長。

2. 適用范圍廣：

• ALD技術適用于在三維結構的部件產品，尤其是帶有較大深寬比結構的溝槽、微孔以及復雜曲面的產品上沉積高保形、高致密、高均勻性的光學薄膜。這種特性有效地彌補了現有PVD（物理氣相沉積）等技術的不足。

3. 創新與發展：

• 為了進一步提升ALD的鍍膜速度，以滿足大規模生產的需求，業界不斷探索新技術。例如，思銳智能展示的C2R旋轉等離子體增強型ALD（PEALD），將空間ALD技術與等離子技術相結合，顯著提高了鍍膜速度，同時保持了ALD技術的優異性能。

二、市場應用突破

1. 夜視產品：

• 在夜視產品的生產中，ALD技術被廣泛應用于在大面積、高深寬比的微通道板中沉積高保形電阻和發射層薄膜材料。這些薄膜材料能夠提高微通道板的二次電子產額，增強產品性能，如將弱光放大為強光，實現光的放大效果。

2. 光學系統：

• ALD技術在光學系統中的應用也非常廣泛。例如，在衍射光柵中填充高折射材料以產生平坦的光柵結構，保持光柵結構清潔；在相機透鏡上沉積均勻的減反增透薄膜材料以提高成像質量；在硅基微顯示（Micro-OLED）薄膜封裝中，ALD技術能夠制作非常致密的、保護性好的薄膜，有效阻隔水和氧，提高OLED的使用壽命。

3. 元宇宙入口設備：

• 隨著“元宇宙”概念的興起，AR/VR等消費類終端作為元宇宙的重要場景入口設備，其創新發展對光學鍍膜設備提出了更高的要求。ALD技術因其高精度、高均勻性和廣泛的適用性，在AR/VR設備的光學鍍膜中展現出巨大的潛力。例如，在Micro-OLED的生產中，ALD技術已經成為必備的生產工藝之一。

三、未來展望

隨著技術的不斷進步和市場的持續拓展，ALD光學鍍膜有望在更多領域實現突破和應用。例如，在半導體集成電路行業中，隨著電子器件的不斷微型化和集成化發展，ALD技術憑借其優異的薄膜沉積性能，有望在芯片制造中發揮更大的作用。同時，隨著“元宇宙”等新興技術的不斷發展，對光學鍍膜設備的需求也將持續增長，為ALD技術的發展提供更廣闊的市場空間。