mos管簡(jiǎn)單恒流電路


MOSFET 恒流電路的原理與應(yīng)用
恒流源在電子電路中扮演著至關(guān)重要的角色,從簡(jiǎn)單的LED驅(qū)動(dòng)到復(fù)雜的電池充電器,再到精密測(cè)量?jī)x器,無(wú)一不需要其提供穩(wěn)定、精確的電流。在眾多實(shí)現(xiàn)恒流的方式中,基于MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)的恒流電路因其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì),如高輸入阻抗、低導(dǎo)通電阻、良好的熱穩(wěn)定性以及易于集成等,被廣泛應(yīng)用于各種場(chǎng)景。本文將深入探討MOSFET恒流電路的基本原理、常見拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)、設(shè)計(jì)考量、性能優(yōu)化以及其在實(shí)際應(yīng)用中的具體體現(xiàn)。
恒流源的基本概念與重要性
在深入探討MOSFET恒流電路之前,我們首先需要理解什么是恒流源及其在電路中的意義。一個(gè)理想的恒流源,無(wú)論其兩端電壓如何變化,都能輸出一個(gè)恒定不變的電流。這與恒壓源(無(wú)論電流如何變化,輸出電壓保持恒定)形成鮮明對(duì)比。
恒流源的重要性體現(xiàn)在多個(gè)方面:
保護(hù)敏感元件: 許多電子元件,特別是LED(發(fā)光二極管)、激光二極管等,對(duì)電流非常敏感。過(guò)高的電流會(huì)迅速損壞它們。恒流源能夠精確控制流過(guò)這些元件的電流,從而延長(zhǎng)其壽命并確保其正常工作。
精確控制能量傳遞: 在電池充電、電鍍、電解等應(yīng)用中,精確控制電流是實(shí)現(xiàn)高效、安全能量傳遞的關(guān)鍵。恒流充電模式能夠有效保護(hù)電池,防止過(guò)充。
提高電路性能: 在模擬電路中,恒流源常用于偏置電路,為放大器、比較器等提供穩(wěn)定的工作點(diǎn),從而提高電路的增益、線性度和穩(wěn)定性。例如,差分放大器中的電流鏡就利用了恒流源的原理。
傳感器與測(cè)量: 許多傳感器(如RTD電阻溫度探測(cè)器、惠斯通電橋)的輸出信號(hào)是電阻或電壓的變化,通過(guò)施加一個(gè)精確的恒定電流,可以將這些變化轉(zhuǎn)化為易于測(cè)量的電壓信號(hào),從而提高測(cè)量精度。
負(fù)載變化適應(yīng)性: 實(shí)際應(yīng)用中,負(fù)載的阻抗可能不是固定不變的。恒流源能夠克服負(fù)載變化帶來(lái)的影響,確保流經(jīng)負(fù)載的電流始終保持預(yù)設(shè)值。
理想的恒流源具有無(wú)限大的內(nèi)阻,這意味著它對(duì)負(fù)載電阻的變化不敏感。然而,實(shí)際的恒流源只能近似實(shí)現(xiàn)這一理想特性,其輸出電流會(huì)在一定電壓范圍內(nèi)保持恒定,這個(gè)電壓范圍被稱為順從電壓范圍。
MOSFET 的基本特性回顧
在構(gòu)建MOSFET恒流電路時(shí),理解MOSFET的基本工作原理和特性至關(guān)重要。MOSFET是一種電壓控制器件,其漏極-源極電流(IDS)由柵極-源極電壓(VGS)控制。根據(jù)其工作模式,MOSFET可以分為增強(qiáng)型和耗盡型,以及N溝道和P溝道。在恒流電路中,通常使用增強(qiáng)型MOSFET。
對(duì)于N溝道增強(qiáng)型MOSFET,其主要工作區(qū)域包括:
截止區(qū)(Cut-off Region): 當(dāng)$V_{GS}$小于閾值電壓($V_{th}$)時(shí),MOSFET處于截止?fàn)顟B(tài),漏極電流$I_{DS}$非常小,接近于零。
線性區(qū)(Linear/Triode Region): 當(dāng)$V_{GS}$大于$V_{th}$且$V_{DS}$(漏極-源極電壓)相對(duì)較小時(shí),MOSFET表現(xiàn)為一個(gè)受$V_{GS}控制的電阻,漏極電流與V_{DS}$成線性關(guān)系。
飽和區(qū)(Saturation Region): 當(dāng)$V_{GS}$大于$V_{th}$且$V_{DS}$大于($V_{GS} - V_{th}$)時(shí),MOSFET進(jìn)入飽和區(qū)。在此區(qū)域,漏極電流$I_{DS}$主要由$V_{GS}$控制,而與$V_{DS}$的變化關(guān)系不大。飽和區(qū)的電流公式大致為: $I_{DS} approx frac{1}{2} mu_n C_{ox} left( frac{W}{L} ight) (V_{GS} - V_{th})^2$ 其中,$mu_n$是電子遷移率,$C_{ox}$是柵氧化層電容,W是溝道寬度,L是溝道長(zhǎng)度。
正是MOSFET在飽和區(qū)具有“鉗位”電流的能力,使得它成為構(gòu)建恒流源的理想選擇。當(dāng)MOSFET工作在飽和區(qū)時(shí),即使漏極-源極電壓$V_{DS}在一定范圍內(nèi)變化,其漏極電流I_{DS}$也能保持相對(duì)穩(wěn)定。
簡(jiǎn)單的MOSFET恒流源拓?fù)?/strong>
1. 單個(gè)MOSFET和電阻構(gòu)成的恒流源
這是最簡(jiǎn)單也是最基礎(chǔ)的MOSFET恒流源結(jié)構(gòu),通常被稱為“自偏置”恒流源或“兩端”恒流源。
電路結(jié)構(gòu): 該電路包含一個(gè)N溝道增強(qiáng)型MOSFET(例如NMOS)和一個(gè)電阻(Rsource)連接在源極到地之間。柵極與漏極連接在一起(或柵極連接到一個(gè)固定電壓),負(fù)載串聯(lián)在漏極或源極。
工作原理: 以柵極和漏極短接(VGS=VDS)為例。在這種配置下,MOSFET總是工作在飽和區(qū)(因?yàn)?V_{DS} geq V_{GS} - V_{th}總是成立,因?yàn)閂_{DS}=V_{GS}且V_{GS} > V_{th}$才能導(dǎo)通)。
柵極接地(VG=0)或固定偏置: 如果柵極接地,或者連接到一個(gè)固定的正電壓VG_bias。在源極串聯(lián)一個(gè)電阻RS。漏極電流ID流過(guò)RS并在其上產(chǎn)生壓降ID?RS。源極電壓VS=ID?RS。柵極-源極電壓VGS=VG_bias?VS=VG_bias?ID?RS。 MOSFET工作在飽和區(qū),漏極電流ID與$V_{GS}$的關(guān)系為: $I_D = frac{1}{2} K_n (V_{GS} - V_{th})^2$ 將$V_{GS}$代入: $I_D = frac{1}{2} K_n (V_{G\_bias} - I_D cdot R_S - V_{th})^2$ 這是一個(gè)關(guān)于$I_D$的二次方程。通過(guò)選擇合適的$V_{G\_bias}$和$R_S$,可以設(shè)定所需的電流ID。
這種配置的優(yōu)點(diǎn)是簡(jiǎn)單,元件數(shù)量少。 缺點(diǎn)是輸出電流受MOSFET閾值電壓$V_{th}$的溫度漂移和工藝變化影響較大,電流精度和穩(wěn)定性不高。此外,$V_{G_bias}$需要一個(gè)穩(wěn)定的參考電壓。
柵極和漏極短接(二極管連接): 在這種配置下,VGS=VDS。由于MOSFET在飽和區(qū)時(shí)要求VDS≥VGS?Vth,而在這里VDS=VGS,所以只要VGS≥Vth,MOSFET就一定工作在飽和區(qū)。其漏極電流ID由$V_{GS}$決定。如果我們將這個(gè)“二極管連接”的MOSFET串聯(lián)一個(gè)源極電阻$R_S$,那么通過(guò)調(diào)整RS,可以粗略地設(shè)定電流。但這種結(jié)構(gòu)本身更常作為電流鏡中的參考電流源,而非獨(dú)立的恒流源。
2. MOSFET 電流鏡恒流源
電流鏡是一種非常常見的恒流電路,它利用兩個(gè)(或多個(gè))特性匹配的MOSFET來(lái)復(fù)制一個(gè)參考電流。
電路結(jié)構(gòu): 最簡(jiǎn)單的電流鏡由兩個(gè)N溝道MOSFET (M1, M2) 組成。M1的柵極和漏極短接,并與一個(gè)參考電阻(Rref)連接到電源VDD,形成一個(gè)參考電流Iref。M2的柵極與M1的柵極相連,源極接地。負(fù)載與M2的漏極串聯(lián)。
工作原理:
參考電流的生成: M1的柵極和漏極短接,使其工作在飽和區(qū)。通過(guò)$R_{ref}$流過(guò)的電流為參考電流$I_{ref} = (V_{DD} - V_{DS1}) / R_{ref}$。由于VDS1=VGS1,因此$I_{ref}$由$V_{DD}$、$R_{ref}$以及$M_1$的特性決定。 Iref=21Kn(VGS1?Vth)2電流復(fù)制: M1和M2的柵極連接在一起,因此VGS1=VGS2。如果M1和M2是完全匹配的(幾何尺寸W/L相同,閾值電壓$V_{th}$相同,并且在同一芯片上制造以保證工藝參數(shù)相同),那么根據(jù)飽和區(qū)電流公式,只要$M_2$也工作在飽和區(qū)(即VDS2≥VGS2?Vth),其漏極電流$I_{out}$將等于$I_{ref}$。 Iout=21Kn(VGS2?Vth)2=Iref優(yōu)點(diǎn):
電流復(fù)制精度高: 如果MOSFET匹配良好,輸出電流的精度可以很高。
溫度穩(wěn)定性: 由于兩個(gè)MOSFET的溫度漂移特性相似,它們之間的匹配有助于抵消溫度變化對(duì)電流的影響。
可編程性: 通過(guò)改變$R_{ref}或V_{DD}$可以方便地調(diào)整輸出電流。
多路輸出: 可以將多個(gè)MOSFET的柵極連接到M1的柵極,形成多路輸出的恒流源。
電流倍增/減小: 通過(guò)調(diào)整M1和M2的W/L比(例如,如果M2的W/L是M1的兩倍,則$I_{out}近似是I_{ref}$的兩倍),可以實(shí)現(xiàn)電流的放大或縮小。
缺點(diǎn):
順從電壓范圍限制: 為了使M2工作在飽和區(qū),負(fù)載兩端的電壓不能太高,必須留有足夠的VDS2(至少大于VGS2?Vth)。這限制了電流源的順從電壓范圍。
匹配要求: 性能高度依賴于MOSFET的匹配。對(duì)于分立器件,匹配通常不如集成芯片內(nèi)部的器件。
溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng): 在實(shí)際MOSFET中,飽和區(qū)的電流并非完全與$V_{DS}$無(wú)關(guān),而是存在輕微的依賴關(guān)系(稱為溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng))。這會(huì)導(dǎo)致電流鏡的輸出阻抗并非無(wú)限大,從而影響電流的穩(wěn)定性。高級(jí)電流鏡結(jié)構(gòu)(如Cascode電流鏡)可以改善這一點(diǎn)。
3. 帶源極反饋電阻的MOSFET恒流源
為了提高簡(jiǎn)單MOSFET恒流源的電流精度和穩(wěn)定性,可以引入源極反饋電阻。
電路結(jié)構(gòu): 該電路包括一個(gè)MOSFET,其柵極連接到一個(gè)固定的參考電壓Vref,源極通過(guò)一個(gè)電阻RS連接到地。負(fù)載串聯(lián)在漏極。
工作原理: 柵極電壓VG=Vref。源極電壓VS=ID?RS。柵極-源極電壓VGS=VG?VS=Vref?ID?RS。當(dāng)MOSFET工作在飽和區(qū)時(shí): ID=21Kn(VGS?Vth)2 ID=21Kn(Vref?ID?RS?Vth)2這個(gè)方程看起來(lái)與第一種簡(jiǎn)單恒流源類似,但這里的$V_{ref}$是外部提供的一個(gè)穩(wěn)定電壓,而不是MOSFET自身的$V_{DS}$。
優(yōu)點(diǎn):
穩(wěn)定性增強(qiáng): 源極電阻RS提供了負(fù)反饋。如果ID試圖增加,則VS增加,$V_{GS}$減小,從而抑制$I_D$的增加。反之亦然。這種負(fù)反饋大大提高了輸出電流的穩(wěn)定性,降低了對(duì)$V_{th}$和$K_n$參數(shù)變化的敏感性。
電流設(shè)置更直觀: 通過(guò)選擇合適的$V_{ref}$和$R_S$,可以更精確地設(shè)定輸出電流。近似地,如果$V_{ref}$遠(yuǎn)大于$V_{th}$,并且IDRS占據(jù)$V_{GS}$的大部分,則$I_D approx (V_{ref} - V_{th}) / R_S$(近似值,因?yàn)?V_{GS}$是$I_D$的函數(shù))。
更高輸出阻抗: 負(fù)反饋使得電路的輸出阻抗更高,從而更好地模擬理想恒流源。
缺點(diǎn):
順從電壓降低: 源極電阻上的壓降ID?RS會(huì)消耗一部分電源電壓,從而減小了負(fù)載可用的電壓范圍(順從電壓范圍)。
需要穩(wěn)定參考電壓: 性能依賴于$V_{ref}$的穩(wěn)定性和精度。通常需要使用穩(wěn)壓二極管、基準(zhǔn)電壓源或運(yùn)算放大器來(lái)提供$V_{ref}$。
4. 基于運(yùn)算放大器(Op-Amp)的MOSFET恒流源
結(jié)合運(yùn)算放大器可以構(gòu)建出性能優(yōu)越的恒流源,它們能提供更高的精度和更寬的順從電壓范圍。
電路結(jié)構(gòu): 典型的結(jié)構(gòu)是運(yùn)放的同相輸入端連接到參考電壓Vref,反相輸入端連接到MOSFET源極,MOSFET的漏極連接負(fù)載,柵極連接運(yùn)放輸出。源極通過(guò)一個(gè)檢測(cè)電阻$R_{sense}$連接到地。
工作原理:
虛短原理: 運(yùn)放通過(guò)負(fù)反饋工作,會(huì)努力使反相輸入端電壓(V?)等于同相輸入端電壓(V+)。所以,VS=Vref。
電流設(shè)定: 流過(guò)檢測(cè)電阻$R_{sense}$的電流是$I_D = V_S / R_{sense} = V_{ref} / R_{sense}$。
MOSFET作為電壓跟隨器: 運(yùn)放的輸出(MOSFET的柵極電壓VG)會(huì)調(diào)整MOSFET,使其源極電壓跟隨運(yùn)放的同相輸入電壓。MOSFET在這里相當(dāng)于一個(gè)電壓跟隨器,但電流流過(guò)負(fù)載。運(yùn)放會(huì)調(diào)整VG使得VS保持在Vref。因此,流過(guò)負(fù)載的電流IL=ID=Vref/Rsense,這個(gè)電流與負(fù)載變化無(wú)關(guān),只取決于$V_{ref}$和$R_{sense}$。
優(yōu)點(diǎn):
高精度和穩(wěn)定性: 運(yùn)放的負(fù)反饋使得輸出電流對(duì)$V_{ref}$和$R_{sense}$的依賴性極高,而對(duì)MOSFET本身的參數(shù)(如$V_{th}$和$K_n$)不敏感。精度主要由$V_{ref}和R_{sense}$的精度決定。
高輸出阻抗: 運(yùn)放的極高開環(huán)增益使得整個(gè)恒流源的輸出阻抗非常高,非常接近理想恒流源。
寬順從電壓范圍: 只要運(yùn)放能正常工作,且MOSFET能保持在飽和區(qū)(需要$V_{DS}$大于$V_{GS} - V_{th}$),恒流特性就能維持。相對(duì)于帶源極反饋電阻的簡(jiǎn)單恒流源,它通常能提供更寬的順從電壓范圍,因?yàn)樗恍枰~外的壓降來(lái)建立VGS(運(yùn)放會(huì)自動(dòng)提供所需的VGS)。
缺點(diǎn):
需要獨(dú)立供電: 運(yùn)放本身需要供電,這增加了電路的復(fù)雜性。
響應(yīng)速度: 運(yùn)放的有限帶寬會(huì)限制恒流源的響應(yīng)速度,不適用于高速脈沖電流應(yīng)用。
成本增加: 增加了運(yùn)放的成本。
設(shè)計(jì)考量與性能優(yōu)化
在設(shè)計(jì)和優(yōu)化MOSFET恒流電路時(shí),需要考慮以下幾個(gè)關(guān)鍵因素:
1. 功耗與散熱
恒流源工作時(shí),MOSFET會(huì)消耗功率,主要是漏極-源極電壓$V_{DS}$與漏極電流$I_D$的乘積(PD=VDS?ID)。 $V_{DS}$通常是電源電壓減去負(fù)載電壓。如果負(fù)載電阻較小,或者電源電壓較高,MOSFET上的壓降就會(huì)很大,導(dǎo)致發(fā)熱嚴(yán)重。 設(shè)計(jì)策略:
選擇合適的MOSFET: 選用具有低導(dǎo)通電阻(RDS(on))和大最大耗散功率($P_D_{max}$)的MOSFET。
合理設(shè)置電流和電壓: 盡量使$V_{DS}$處于飽和區(qū)的最小必要值,以降低功耗,同時(shí)保證足夠的順從電壓。
散熱設(shè)計(jì): 對(duì)于大電流應(yīng)用,必須為MOSFET配備散熱片,甚至主動(dòng)散熱(風(fēng)扇),以防止其過(guò)熱損壞。
2. 順從電壓范圍
恒流源的順從電壓范圍是指負(fù)載兩端電壓可以在此范圍內(nèi)變化,而輸出電流仍能保持恒定。 影響因素:
電源電壓: 最高負(fù)載電壓不能超過(guò)電源電壓。
MOSFET最小VDS: MOSFET必須工作在飽和區(qū),因此需要保持VDS≥VGS?Vth。這就限制了負(fù)載可獲得的最高電壓。
源極電阻壓降: 如果有源極反饋電阻或電流檢測(cè)電阻,其上的壓降會(huì)進(jìn)一步減小順從電壓范圍。 優(yōu)化:
選擇低$V_{th}$的MOSFET: 降低$V_{th}$可以減小保持飽和區(qū)所需的最小$V_{DS}$。
采用升壓電路: 如果需要驅(qū)動(dòng)高壓負(fù)載,可以考慮在恒流源前級(jí)使用升壓轉(zhuǎn)換器。
級(jí)聯(lián)結(jié)構(gòu)(Cascode): 對(duì)于電流鏡,Cascode結(jié)構(gòu)可以顯著提高輸出阻抗,并擴(kuò)大順從電壓范圍,但會(huì)增加元件數(shù)量和最小工作電壓。
3. 輸出阻抗
理想恒流源的輸出阻抗是無(wú)限大。實(shí)際恒流源的輸出阻抗越高,其恒流性能越好。 影響因素:
MOSFET溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng): 這是導(dǎo)致MOSFET飽和區(qū)電流輕微依賴于$V_{DS}$的主要原因。
電路拓?fù)洌?/strong> 簡(jiǎn)單的單MOSFET恒流源輸出阻抗較低。引入負(fù)反饋(如源極電阻)或使用運(yùn)放可以顯著提高輸出阻抗。電流鏡的輸出阻抗也相對(duì)較高。 優(yōu)化:
使用長(zhǎng)溝道MOSFET: 溝道長(zhǎng)度越長(zhǎng),溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)越不明顯,輸出阻抗越高。
采用Cascode結(jié)構(gòu): 在電流鏡或單MOSFET恒流源上方串聯(lián)另一個(gè)MOSFET,形成Cascode結(jié)構(gòu),可以有效“屏蔽”下方MOSFET的$V_{DS}$變化,從而極大地提高輸出阻抗。
運(yùn)放反饋: 運(yùn)放的負(fù)反饋是提高輸出阻抗的最有效方法之一。
4. 噪聲與紋波
恒流源的輸出電流應(yīng)盡可能平滑,沒有明顯的噪聲和紋波。 影響因素:
電源紋波: 如果電源電壓存在紋波,可能會(huì)通過(guò)MOSFET的寄生電容或不完善的偏置電路耦合到輸出電流中。
參考電壓噪聲: 參考電壓源的噪聲會(huì)直接影響輸出電流的穩(wěn)定性。
MOSFET噪聲: MOSFET本身也會(huì)產(chǎn)生熱噪聲和閃爍噪聲。 優(yōu)化:
電源濾波: 在電源輸入端增加去耦電容和濾波電路。
穩(wěn)定參考電壓: 使用低噪聲、高PSR(電源抑制比)的基準(zhǔn)電壓源或穩(wěn)壓二極管。
合適布局: 優(yōu)化PCB布局,減少寄生電容和電感,避免噪聲耦合。
選擇低噪聲器件: 選用低噪聲的MOSFET和運(yùn)放。
5. 溫度穩(wěn)定性
MOSFET的閾值電壓Vth、Kn參數(shù)以及源極電阻等都具有溫度漂移特性,會(huì)影響輸出電流的穩(wěn)定性。 優(yōu)化:
負(fù)溫度系數(shù)電阻: 有些應(yīng)用中會(huì)使用具有負(fù)溫度系數(shù)的電阻來(lái)部分補(bǔ)償MOSFET的$V_{th}$溫度漂移。
電流鏡匹配: 對(duì)于電流鏡,如果兩個(gè)MOSFET在相同溫度下工作且參數(shù)匹配,可以有效抵消溫度影響。
運(yùn)放反饋: 基于運(yùn)放的恒流源受MOSFET自身溫度漂移影響較小,主要取決于參考電壓和檢測(cè)電阻的溫度穩(wěn)定性。
溫度補(bǔ)償電路: 對(duì)于高精度應(yīng)用,可以設(shè)計(jì)專門的溫度補(bǔ)償電路,例如使用NTC熱敏電阻。
實(shí)際應(yīng)用
MOSFET恒流電路在各種電子設(shè)備中都有廣泛應(yīng)用:
LED 照明驅(qū)動(dòng): LED的亮度與其流過(guò)的電流成正比。恒流源能夠精確控制LED電流,保證亮度一致性,并防止過(guò)流損壞。
電池充電器: 恒流充電是鋰離子電池充電的關(guān)鍵階段之一。MOSFET恒流源可以提供穩(wěn)定的充電電流,確保電池安全高效充電。
激光二極管驅(qū)動(dòng): 激光二極管對(duì)電流要求非常高,微小的電流波動(dòng)都可能影響其輸出功率和壽命。高精度MOSFET恒流源是其核心組成部分。
傳感器激勵(lì): 在電阻式傳感器(如PT100溫度傳感器、應(yīng)變片)的測(cè)量中,施加恒定電流可以將其電阻變化轉(zhuǎn)換為電壓變化,從而提高測(cè)量精度。
精密測(cè)量?jī)x器: 恒流源作為關(guān)鍵模塊,用于提供穩(wěn)定電流進(jìn)行電阻測(cè)量、電導(dǎo)率測(cè)量等。
運(yùn)算放大器偏置: 在高性能運(yùn)算放大器和其他模擬集成電路中,恒流源用于為晶體管提供穩(wěn)定的偏置電流,確保電路在整個(gè)工作范圍內(nèi)具有穩(wěn)定的性能。
繼電器驅(qū)動(dòng): 某些繼電器線圈需要特定的恒定電流來(lái)保持吸合狀態(tài),恒流源可以有效驅(qū)動(dòng)。
電機(jī)控制: 在步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)中,有時(shí)需要恒流驅(qū)動(dòng)以確保扭矩的穩(wěn)定輸出。
總結(jié)
MOSFET恒流電路是電子設(shè)計(jì)中的基本構(gòu)建塊,其重要性不言而喻。從最簡(jiǎn)單的單MOSFET與電阻結(jié)構(gòu),到高精度的運(yùn)算放大器反饋型恒流源,每種拓?fù)涠加衅洫?dú)特的優(yōu)缺點(diǎn)和適用場(chǎng)景。理解MOSFET在飽和區(qū)的工作特性是設(shè)計(jì)恒流源的基礎(chǔ)。在實(shí)際設(shè)計(jì)中,工程師需要綜合考慮電流精度、穩(wěn)定性、順從電壓范圍、功耗、散熱以及成本等多種因素,選擇最適合特定應(yīng)用需求的電路拓?fù)洌⑦M(jìn)行相應(yīng)的參數(shù)計(jì)算和優(yōu)化,以確保電路的穩(wěn)定可靠運(yùn)行。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,未來(lái)將會(huì)出現(xiàn)更多集成度更高、性能更優(yōu)異的MOSFET恒流解決方案。
責(zé)任編輯:David
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