使用 Die-to-Die PHY IP 的系統級封裝的量產測試


原標題:使用 Die-to-Die PHY IP 的系統級封裝的量產測試
隨著Chiplet架構與c的普及,Die-to-Die(D2D)PHY IP(如UCIe、HBM PHY、AMD Infinity Fabric等)的量產測試成為確保系統級封裝(SiP)良率與可靠性的核心環節。以下從測試挑戰、技術方案、量產實施三方面展開分析,結合實際案例與數據提供可落地的解決方案。
一、D2D PHY IP測試的核心挑戰
1. 高速信號完整性難題
問題表現:
D2D PHY工作頻率已突破56Gbps(UCIe Gen2),信號衰減、串擾、抖動導致誤碼率(BER)顯著增加。
案例:某AI芯片在112Gbps UCIe PHY測試中,發現串擾噪聲導致BER從10?12升至10??,超出標準3個數量級。
根本原因:
封裝基板材料(如ABF)介電損耗隨頻率升高(Df在10GHz時達0.015),高頻信號衰減達3dB/cm。
微凸塊(Micro Bump)間距縮小至10μm以下,寄生電容增加20%,導致阻抗失配。
2. 多物理場耦合干擾
問題表現:
封裝內多芯片熱耦合導致D2D PHY工作溫度差異>20℃,引發時序偏差(ΔTj=20℃→ΔTskew=5ps)。
案例:某HPC芯片在高溫測試(Tj=125℃)中,發現D2D PHY時序裕量從300ps壓縮至150ps,導致鏈路建立失敗。
根本原因:
芯片間熱膨脹系數(CTE)不匹配(如Si=2.6ppm/℃,有機基板=17ppm/℃),導致應力引起的時序漂移。
電源完整性(PI)問題:多芯片PDN網絡阻抗波動(ΔZ=0.1Ω@1GHz),引發電壓噪聲(ΔV=50mV),影響PHY供電穩定性。
3. 測試覆蓋率與效率矛盾
問題表現:
傳統ATE測試成本高昂(單芯片測試時間>10秒),而D2D PHY需測試所有通道(如1024通道),導致測試時間指數級增長。
案例:某4nm工藝AI芯片的D2D PHY測試時間從2小時/片(單通道)擴展至200小時/片(全通道),量產效率下降90%。
根本原因:
測試向量復雜度提升(如UCIe需要支持PRBS31、LFSR等模式),單通道測試數據量達10TB/s。
邊界掃描(Boundary Scan)覆蓋率不足:傳統JTAG僅覆蓋10%的PHY寄存器,無法檢測深層次故障。
二、量產測試技術方案
1. 高速信號完整性測試技術
技術方案:
高速示波器(如Keysight DSOZ634A,帶寬70GHz,采樣率160GSa/s)
誤碼儀(如Anritsu MP1900A,支持BER<10?1?測試)
預加重/去加重(Pre-emphasis/De-emphasis):通過動態調整發射端預加重(Tx Pre-cursor=-3dB,Post-cursor=+2dB),補償高頻衰減。
均衡器(EQ)優化:采用FFE(前饋均衡)與DFE(判決反饋均衡)組合,將信道損耗容限從15dB提升至25dB。
測試設備:
實施效果:
某數據中心芯片通過上述優化,將112Gbps UCIe PHY的BER從10??降至10?1?,滿足量產標準。
2. 多物理場耦合測試方法
技術方案:
使用可編程電源(如Keysight N6705C)注入±100mV的電壓噪聲,驗證PHY在電源波動下的穩定性。
在ATE中集成紅外熱成像模塊(如FLIR A655sc,精度±1℃),實時監測芯片溫度分布。
通過動態電壓頻率調整(DVFS)技術,在-40℃~125℃范圍內掃描PHY性能,生成時序-溫度補償表。
熱-電協同測試:
電源噪聲注入測試:
實施效果:
某5G基站芯片通過熱-電協同測試,將高溫下的時序裕量從150ps提升至250ps,良率提升15%。
3. 測試效率提升策略
技術方案:
使用機器學習算法(如XGBoost)預測PHY故障模式,將測試向量長度縮短40%。
案例:某GPU芯片通過AI優化,將測試時間從4小時/片降至2.4小時/片,測試成本降低35%。
采用多通道ATE(如Advantest V93000,支持512通道并行測試),將單芯片測試時間從200小時壓縮至4小時。
引入測試資源池化技術,動態分配ATE通道資源,設備利用率從30%提升至80%。
并行測試架構:
AI驅動的測試優化:
三、量產測試實施流程
1. 測試流程設計
階段劃分:
階段 測試內容 工具/設備 良率控制目標 晶圓級測試 PHY信號眼圖、抖動、BER 高速探針臺(FormFactor ZEUS) ≥95% 封裝后測試 多芯片協同工作、熱應力測試 多通道ATE(Advantest V93000) ≥90% 系統級測試 端到端數據傳輸、長期可靠性 定制化測試板(含高速連接器) ≥85%
2. 關鍵參數監控
電氣參數:
發射端輸出幅度(Vpp):800mV±50mV
接收端靈敏度(BER=10?12):≤-20dBm
時序參數:
時鐘抖動(RMS):≤0.5ps
通道間偏斜(Skew):≤5ps
可靠性參數:
高溫高濕(85℃/85%RH)測試壽命:≥1000小時
溫度循環(-55℃~125℃,1000次)失效率:<0.1%
3. 良率提升案例
某AI芯片量產案例:
問題:UCIe PHY在量產測試中良率僅75%,主要故障為眼圖閉合(BER>10?12)。
優化措施:
結果:良率提升至92%,測試成本降低28%。
調整封裝基板疊層結構,將高頻信號層介質厚度從3mil降至2mil,衰減降低1.5dB。
在ATE中增加動態均衡器校準步驟,補償信道失配。
引入AI驅動的測試向量優化,將測試時間從5小時/片壓縮至3小時/片。
四、未來趨勢與建議
1. 技術趨勢
光子-電子混合測試:
通過集成硅光子學(SiPh)測試模塊,實現光-電協同測試,支持600Gbps以上D2D PHY。
在片測試(On-Chip Test):
將測試邏輯(如BIST控制器)嵌入PHY IP,實現自測試功能,減少對ATE的依賴。
2. 實施建議
設計階段:
在D2D PHY IP中預留可測試性設計(DFT)接口(如JTAG 2.0、IEEE 1149.7),降低測試復雜度。
量產階段:
建立多維度測試數據庫(包含溫度、電壓、頻率等參數),通過大數據分析優化測試策略。
總結:D2D PHY IP量產測試的核心邏輯
信號完整性優先:通過預加重、均衡器等技術補償高頻衰減,確保BER<10?12。
多物理場協同:集成熱、電、力多場測試,覆蓋-40℃~125℃全溫區。
效率與成本平衡:采用并行測試、AI優化等手段,將測試時間壓縮至小時級。
全流程監控:從晶圓到系統級測試,建立良率與參數的閉環反饋機制。
通過上述技術方案與實施流程,可實現D2D PHY IP在SiP量產中的高良率(>90%)、低成本(測試成本<$0.5/片)與高可靠性(MTBF>10萬小時),為Chiplet技術的規?;瘧锰峁┍U?。
責任編輯:David
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