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中芯國際 14nm 良率追平臺積電,部分成熟工藝訂單已排至明年

來源: 中電網
2021-03-11
類別:業界動態
eye 34
文章創建人 拍明

原標題:中芯國際 14nm 良率追平臺積電,部分成熟工藝訂單已排至明年

中芯國際在14nm工藝方面取得了顯著進展,其良率已經追平了臺積電,且部分成熟工藝的訂單已經排至明年。以下是對此情況的詳細分析:

一、中芯國際14nm工藝良率追平臺積電

據供應鏈傳來的消息顯示,中芯國際14納米工藝的良率已經追平了臺積電的同等工藝,良率高達90%~95%。這意味著中芯國際14納米工藝的成本將進一步降低,有望與臺積電的14納米工藝同臺競爭。中芯國際在14nm工藝方面的突破,不僅提升了其自身的技術實力,也為中國半導體產業的發展注入了新的活力。

二、部分成熟工藝訂單已排至明年

隨著中芯國際14nm工藝良率的提升,其產能也得到了有效釋放。據供應鏈消息,中芯國際目前各制程產能滿載,部分成熟工藝訂單已經排至明年。這充分說明了中芯國際在半導體制造領域的市場地位和影響力正在不斷提升。

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三、中芯國際的發展前景

  1. 產能擴張:中芯國際在上海和北京都有晶圓廠建設項目,一旦完工并投入到生產線,將進一步提升其市場份額和產能。

  2. 技術突破:除了14nm工藝外,中芯國際還在不斷研發更先進的制程技術。例如,其N+1工藝已經完成了流片,這相當于7nm制程的芯片技術。未來,中芯國際有望在更先進的制程技術上取得更多突破。

  3. 市場需求:隨著全球半導體市場的不斷增長和中國半導體產業的快速發展,中芯國際作為中國大陸自主研發集成電路的領軍企業,將面臨更多的市場機遇和挑戰。

四、總結

中芯國際在14nm工藝方面的突破和良率的提升,不僅提升了其自身的技術實力和市場份額,也為中國半導體產業的發展注入了新的活力。未來,隨著產能擴張、技術突破和市場需求的不斷增長,中芯國際有望在半導體制造領域取得更多的成就和突破。同時,我們也期待中芯國際能夠攜手更多優秀的中國企業,共同為中國芯片行業打出一片天。


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