上海微電子已成功研制出28nm光刻機，這是國內唯一一家掌握光刻機技術的企業所取得的重大突破。光刻機是制造芯片的核心設備之一，其精度和穩定性對于芯片制造的質量和效率具有決定性的影響。28nm光刻機的研制成功，意味著中國芯片制造行業在核心技術方面取得了重要進展，也為中國芯片產業的自主發展提供了有力支撐。

光刻機是一種利用光學原理進行高精度微納加工的設備，其核心技術包括光源、光學系統、精密機械等多個方面。28nm光刻機的研制成功，代表了上海微電子在這些核心技術方面都取得了重要突破，也標志著中國芯片制造行業在微納加工領域的技術水平得到了顯著提升。

這一成果的實現，不僅對于上海微電子和中國芯片產業具有重要意義，也對于整個半導體行業的發展具有推動作用。隨著技術的不斷進步和應用需求的不斷提升，光刻機的精度和穩定性將不斷提高，為芯片制造行業帶來更多的機遇和挑戰。同時，隨著中國芯片產業的不斷壯大和發展，相信未來會有更多的技術和產品走向世界舞臺，為全球半導體行業的發展做出更大的貢獻。

不過，需要注意的是，雖然28nm光刻機的研制成功是一個重要的里程碑，但中國芯片產業仍然面臨著諸多挑戰和困難。在核心技術方面，還需要不斷加強研發和創新，提高自主創新能力；在市場方面，還需要進一步擴大市場份額，提高國際競爭力。因此，需要政府、企業和社會各界共同努力，推動中國芯片產業的持續發展和創新。

根據公開報道，上海微電子已經成功研制出28nm的光刻機，并且計劃在未來交付給國內市場。這一成果標志著中國芯片制造行業在光刻機技術方面取得了重大突破，縮小了與國際先進水平的差距。

然而，值得注意的是，雖然上海微電子已經研制出28nm光刻機，但這并不意味著中國的光刻機技術已經完全達到國際領先水平。在技術成熟度和市場份額方面，國產光刻機仍然面臨著一定的挑戰。因此，需要繼續加強技術研發和創新，提高自主創新能力，同時加強市場推廣和應用，以進一步推動中國芯片產業的發展。

總之，上海微電子成功研制出28nm光刻機是一個重要的里程碑，標志著中國芯片制造行業在核心技術方面取得了重要進展。這將有助于推動中國芯片產業的自主發展和提升國際競爭力。

有多篇公開報道提及上海微電子成功研制出28nm光刻機。

• 新華網援引《證券日報》消息稱，上海微電子在28nm浸沒式光刻機研發上取得重大突破，并預計在年底向市場交付國產第一臺28nm光刻機設備。

• 張江集團官方賬號“你好張江”也披露了上海微電子成功研制出28nm光刻機的消息，并肯定了中芯國際、華虹半導體等在先進模擬芯片代工方面不斷注入的強勁能量。

這些報道均表明，上海微電子在國內光刻機技術方面取得了重要進展，并且這一成果對于推動中國芯片產業的自主發展和提升國際競爭力具有重要意義。不過，需要注意的是，雖然28nm光刻機的研制成功是一個重要的里程碑，但中國芯片產業仍然需要繼續加強技術研發和創新，提高自主創新能力，以應對日益激烈的市場競爭。