PN結的電容特性在半導體存儲器中的應用主要體現在動態隨機存取存儲器（DRAM）中。DRAM是一種利用電容來存儲電荷信息的存儲器，其存儲單元主要由一個晶體管和一個電容器組成。而PN結的電容特性正是構成DRAM中電容器的基礎。

在DRAM中，PN結電容通常是由一個N型半導體區域和一個P型半導體區域通過擴散或離子注入等工藝形成的。當外加電壓作用于PN結時，會在其界面附近形成一個耗盡區，這個區域中的電荷分布會隨外加電壓的變化而變化，從而呈現出電容效應。這個電容效應就是DRAM中用于存儲電荷信息的電容器。

具體來說，當DRAM的存儲單元被寫入數據時，會通過晶體管將電荷注入到PN結電容中，使其帶上一定的電荷量。這個電荷量就代表了存儲的數據值，通常是用二進制位（bit）來表示的。當需要讀取數據時，會通過晶體管將PN結電容中的電荷量轉化為電流或電壓信號，然后經過放大和處理后輸出。

由于DRAM中的電容器是通過PN結的電容特性來構成的，因此其存儲的電荷量會受到多種因素的影響，如PN結的摻雜濃度、耗盡區的寬度、外加電壓的大小等。此外，DRAM還需要定期刷新來保持存儲的數據不丟失，因為隨著時間的推移，電容器中的電荷會逐漸泄漏掉。

除了DRAM之外，PN結的電容特性還可以在其他類型的存儲器中有所應用，但具體的應用方式和效果可能因存儲器的類型和結構而異。總的來說，PN結的電容特性為半導體存儲器提供了一種有效的存儲電荷信息的方式，是現代電子技術中不可或缺的一部分。