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進博會ASML:光刻未來,攜手同行

來源: 中電網(wǎng)
2020-11-09
類別:業(yè)界動態(tài)
eye 25
文章創(chuàng)建人 拍明

原標題:進博會 ASML:光刻未來,攜手同行

自2018年首次參展以來,ASML已連續(xù)多年亮相中國國際進口博覽會(進博會),以“光刻未來,攜手同行”為主題,通過全景光刻解決方案展示其在半導體行業(yè)的創(chuàng)新實力與技術突破。

核心展示內(nèi)容

  1. 全景光刻解決方案
    ASML融合光刻機臺、計算光刻及量測技術,形成覆蓋芯片制造全流程的“鐵三角”業(yè)務模式。通過交互式數(shù)字化展示,觀眾可直觀了解光刻機如何將電路圖案精準投影至晶圓,以及計算光刻與量測技術如何協(xié)同優(yōu)化芯片良率。

  2. 前沿產(chǎn)品矩陣

    • NXT系列DUV光刻機:如NXT:1470、NXT:870等機型,采用磁浮平臺技術,顯著提升產(chǎn)能并降低單位成本。

    • XT:260 i-line光刻系統(tǒng):基于雙工作臺技術,支持先進封裝及主流芯片制造,提升性能并降低單片成本。

    • eScan 1100電子束量測設備:實現(xiàn)晶圓缺陷在線檢測,吞吐量較單束系統(tǒng)提升10倍以上。

    • 計算光刻業(yè)務:通過優(yōu)化光源與掩模板設計,助力客戶實現(xiàn)更高良率。

  3. 沉浸式體驗與互動
    展臺設置虛擬晶圓廠、光刻機“開箱”視頻及H5虛擬課堂等互動環(huán)節(jié),觀眾可近距離感受光刻機內(nèi)部構造,并通過AI生成內(nèi)容(AIGC)技術,體驗ASML技術演進歷程。

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戰(zhàn)略布局與行業(yè)貢獻

  • 深耕中國市場
    自1988年交付首臺步進式光刻機以來,ASML已在中國市場深耕30余年,設立16個辦事處、12個倉儲物流中心及3個開發(fā)中心,員工總數(shù)超1600人。

  • 技術創(chuàng)新與人才培養(yǎng)
    ASML深圳和武漢研發(fā)團隊開發(fā)的新版計算光刻產(chǎn)品,已成功導入客戶應用,助力提升行業(yè)良率。公司秉承“3C”企業(yè)文化(Challenge挑戰(zhàn)、Collaborate合作、Care關愛),推動半導體行業(yè)技術突破。

  • 推動全球合作
    ASML通過進博會平臺,與全行業(yè)及跨領域伙伴深化交流,共同探索技術邊界,助力半導體產(chǎn)業(yè)可持續(xù)發(fā)展。

未來展望

面對全球半導體市場的周期性波動,ASML預計2025年行業(yè)將迎來需求反彈,并計劃通過產(chǎn)能爬升滿足市場需求。公司將繼續(xù)在合規(guī)合法的前提下,為中國客戶提供成熟制程領域的技術支持,助力中國半導體產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。

ASML在進博會的持續(xù)亮相,不僅展現(xiàn)了其在光刻技術領域的領導地位,更彰顯了其以開放合作推動行業(yè)共贏的堅定承諾。


責任編輯:David

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標簽: ASML

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