臺積電2021年資本支出將達200億美元,設備廠將受益


原標題:臺積電2021年資本支出將達200億美元,設備廠將受益
臺積電2021年的資本支出計劃實際上遠超200億美元。根據臺積電官方及多個權威來源的信息,2021年臺積電的資本支出預計為250億美元至280億美元,后又上調至300~310億美元,這一數字較上一年度有了大幅的增長。
臺積電如此大規模的資本支出,主要得益于5G、高效能運算(HPC)等領域的強勁需求,這些領域對先進制程的需求尤為旺盛。臺積電預計,從2021年起至2025年,其每年的復合成長率將達到10%~15%。在這些先進制程中,3納米、5納米及7納米等將是臺積電資本支出的重點,預計將有八成的資本支出用于這些領域。
臺積電大規模的資本支出計劃,無疑將為其設備供應商帶來巨大的商機。隨著臺積電對先進制程設備的需求不斷增加,設備供應商將有望獲得更多的訂單和市場份額。此外,臺積電在資本支出上的增加,也將進一步鞏固其在全球半導體行業的領先地位,推動整個半導體產業鏈的發展。
總的來說,臺積電2021年的資本支出計劃遠超200億美元,這一大規模的資本支出將為其設備供應商帶來顯著的商業機會,同時也將進一步推動臺積電在全球半導體行業的發展。
責任編輯:David
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