原標題：思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021，探索從微觀到宏觀層面的ALD光學應用創新

思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021（即第23屆中國國際光電博覽會），并在此平臺上深入探索了從微觀到宏觀層面的原子層沉積（ALD）光學應用創新。以下是對該事件的詳細闡述：

一、事件背景

• 參展方：青島四方思銳智能技術有限公司（簡稱思銳智能），攜其全資收購的芬蘭Beneq品牌共同參展。

• 展會名稱：第23屆中國國際光電博覽會（CIOE2021）。

• 展會時間：具體年份為2021年（具體日期未提及，但根據標題可推斷）。

二、參展亮點

1. ALD光學應用創新：

• 思銳智能在展會上分享了ALD設備的主流產品以及在光學領域的眾多創新解決方案。ALD技術以其原子級精度的特性，在納米結構的微觀層面和任意形態光學器件的宏觀層面均展現出卓越的應用潛力。

• ALD技術能夠調整光學材料的特性，滿足高精度、高保形性、高致密性和高均勻性的要求，特別是在三維結構部件產品上沉積高保形、高致密、高均勻性的光學薄膜方面具有獨特優勢。

2. 產品展示：

• 思銳智能展示了包括P400A、P800、P1500和C2R在內的多款ALD設備。這些設備克服了傳統ALD設備沉積速率慢、不兼容大尺寸產品、難以大規模生產的局限，滿足了現代光學規模化、高要求的鍍膜產品的生產需要。

• 其中，P系列設備支持定制反應腔的配置選項，適用于各種基底，且反應腔易于更換，減少了因維護造成的停機時間。C2R系列則是將空間ALD技術與等離子技術結合的創新產品，實現了超高速的鍍膜能力。

1. 技術合作與生態拓展：

• 思銳智能與浙江大學光學與光電子薄膜研究所簽訂了戰略合作協議，共建聯合實驗室，用于技術開發和應用創新。

• 公司還積極拓展生態合作版圖，與國內外多家知名企業達成合作，共同推動ALD技術在光學及其他領域的應用。

三、市場反響與應用前景

• 思銳智能的ALD設備和技術在展會上引起了廣泛關注，其出色的膜層厚度均勻性、保形性和高性價比等特點贏得了行業人士的認可。

• 展望未來，隨著光電系統微縮化、基底材料多元化以及各類行業應用的創新迭代，ALD技術將在光學鍍膜領域發揮更加重要的作用。思銳智能將繼續以先進的ALD技術為客戶提供一站式解決方案，滿足從研發、中試線到工業化量產的全方位鍍膜需求。

綜上所述，思銳智能攜Beneq品牌亮相CIOE2021不僅展示了其在ALD光學應用領域的創新成果和技術實力，還進一步拓展了市場合作與生態版圖，為未來的光學鍍膜產業發展奠定了堅實基礎。