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納米壓印微影
納米壓印微影
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微納米尺度圖形結(jié)構(gòu)的快速復(fù)制和轉(zhuǎn)移；具有高分辨率、高產(chǎn)量、低成本的優(yōu)點(diǎn)；可輕易制作3D立體結(jié)構(gòu)之微影刻蝕技術(shù)；高分子材料直接壓印成形，避免長時(shí)間或大范圍之刻蝕步驟；可簡單的制作出高深寬比的結(jié)構(gòu)。此設(shè)備還采用了單面硬襯墊氣壓軟壓技術(shù)、IPS技術(shù)、STU技術(shù)，增加壓力均勻性，延長模板壽命延長，提升圖形分辨率。相關(guān)應(yīng)用包括量子磁碟、生物傳感器微陣列、微流體通道、光子晶體、GaAs量子元件等

不用EUV光刻機(jī)也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術(shù)
不用EUV光刻機(jī)也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術(shù)
是的，不用EUV光刻機(jī)也能造5nm芯片，這得益于鎧俠攜手NDP（大日本印刷株式會(huì)社）與佳能共同力推的NIL（納米壓印微影）技術(shù)。技術(shù)背景與優(yōu)勢EUV光刻機(jī)問題：在半導(dǎo)體制程技術(shù)進(jìn)入5nm節(jié)點(diǎn)后，EUV光刻機(jī)成為了不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備。然而，EUV光刻機(jī)造價(jià)高昂（每臺(tái)價(jià)格超過1億美元），且僅荷蘭ASML一家能夠生產(chǎn)供應(yīng)，產(chǎn)能有限，導(dǎo)致芯片生產(chǎn)......
EUV光... 納米壓印... 手機(jī)應(yīng)用...
2021-10-26
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