碳化硅 MOSFET 吹捧格紋嵌入式肖特基二極管


原標題:碳化硅 MOSFET 吹捧格紋嵌入式肖特基二極管
碳化硅MOSFET(SiC MOSFET)在電力電子領域的應用中,因其出色的物理特性而備受矚目。格紋嵌入式肖特基二極管(Schottky Barrier Diode, SBD)的引入,為碳化硅MOSFET的性能提升帶來了顯著的效果。以下是關于碳化硅MOSFET及其格紋嵌入式肖特基二極管的詳細分析:
一、碳化硅MOSFET的優勢
高溫工作特性:碳化硅(SiC)材料因其優越的物理特性,如高熱導率和寬帶隙,使得SiC MOSFET在高溫環境下表現出色。相較于傳統的硅(Si)MOSFET,SiC MOSFET能夠承受更高的溫度,從而提高系統的可靠性。
低導通電阻和開關損耗:SiC MOSFET具有較低的導通電阻和開關損耗,這使得它適用于更高頻率的工作條件。在低功耗和高效率方面,SiC MOSFET具有明顯的優勢。
高電壓和高功率密度:SiC MOSFET能夠承受更高的電壓和功率密度,使其在高壓、高功率應用中具有獨特的優勢。
二、格紋嵌入式肖特基二極管的作用
提高可靠性:東芝公司研發了一種將嵌入式肖特基勢壘二極管(SBD)排列成格子花紋(check-pattern embedded SBD)的SiC MOSFET。這種設計結構在不影響可靠性的情況下,顯著降低了導通電阻。
降低導通電阻:根據東芝的實驗結果,這種格紋嵌入式SBD的設計可以將導通電阻(RonA)降低約20%。這對于提高SiC MOSFET的性能和效率具有重要意義。
限制寄生二極管雙極性導通:通過將SBD按格子花紋分布,降低了SBD嵌入式SiC MOSFET的導通損耗,并實現了良好的二極管導電性。這種設計有效限制了寄生二極管雙極性導通,從而提高了SiC MOSFET的穩定性和可靠性。
三、總結
碳化硅MOSFET憑借其出色的物理特性和格紋嵌入式肖特基二極管的創新設計,在電力電子領域展現出顯著的優勢。其高溫工作特性、低導通電阻和開關損耗、高電壓和高功率密度等特點,使得SiC MOSFET成為高壓、高功率、高效率應用中的理想選擇。同時,格紋嵌入式肖特基二極管的設計進一步提高了SiC MOSFET的性能和可靠性,為電力電子系統的發展提供了有力的支持。
責任編輯:David
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